全息瞄准镜和红点瞄准镜是一样的吗？为什么都有红点？
你好题主，首先能确认的一点是全息跟红点是肯定不一样的。所以在这里给你列举出来都有哪些不同，你看一眼就明白了。作为最常见的瞄具亦称为基础瞄具。大家的枪械首选的都是这两种瞄具：红点和全息他们都以一倍瞄具对近战有奇效，中远程则显得十分乏力。先来看看全息，我个人认为全息是优于红点的，原因在于两点。一个是全息有红色辅助圈，中间是红点。
这样有方便我们对敌人的瞄准。第二点就是其实全息的镜头拉近是优于红点的，虽然相差不大，但是往往就是这样的小差距可能就决定你能不能对一个人进行瞄准。（第二点是一个枪王说的个人未证实。）可能是我个人比较菜，我怕比较喜欢红点，原因是红点的的边框是比全息小很多，在对敌人进行开枪的同时也能很方便的观察敌人附近的情况。
我用全息的时候总是觉得非常压抑。总感觉遮挡好多好多视野。心理不自觉的就没底。虽然这两个瞄具各有各的特点，但是我现在已经开始逼着自己不去用这两个瞄具。这也是我个人的建议，就是尽量的去使用2倍镜/3倍镜作为自己的基础瞄具，这样的你无论是在面对中距离近距离都会有一定的优势，不过劣势还是在于你在巷战的时候可能没有办法开镜，毕竟倍镜太高开镜之后也不是那么方便。
我国首台分辨力最高紫外超分辨光刻装备和目前最先进的光刻机有什么区别呢？
媒体又在乱吹，这对科技进步是不利的，错误引导大家。首先这款刻录机只是刻录，并不能造芯片。从这篇文章的作者得知，“中科院光电所此次通过验收的表面等离子体超分辨光刻装备，打破了传统路线格局，形成了一条全新的纳米光学光刻技术路线，具有完全自主知识产权，为超材料/超表面、第三代光学器件、广义芯片等变革性领域的跨越式发展提供了制造工具”。
也就是说，这款刻录机的应用其实并不是在半导体行业，而是表面刻录技术，与半导体行业半毛钱关系！同时，即便这项技术是表面功夫，也并不是性能最优秀的，国外的光刻技术远比这个先进！除此之外，这也并不是国内首款这样的光刻机，据了解，国内很多单位都具有这样的光刻技术，这一次的光刻机刷屏，不过是无良媒体，蹭热点乱带节奏罢了！芯片光刻机，这个技术的难度远非你所能想象我们都知道，只有荷兰的ASML能够造出高端的光刻机，而其在高端市场占比已经超过了80%以上，日本的尼康等也曾经在光刻机上投资并拥有技术，但最终没有竞争过荷兰ASML！在你们的印象中，荷兰有风车与奶牛，有牧场与农庄，但对于欧洲小国来说，没两把真刷子经济能如此发达？仅靠风车就能支持经济？同时据了解，光刻机技术非常难，包括台积电，三星，英特尔等芯片巨头，都不得不依仗ASML的高端光刻机！而整个行业的进步，同样需要依赖ASML的自我革新以及进步，也因为全球只此一家，ASML每年的研发费用达到了130亿欧元以上，但为了促进ASML研发生产出更高端的产品，三大半导体巨头还要为ASML出一半的研发资金，也就是65亿欧元，足以看出，ASML在行业的地位，有多的重要！中国的光刻机，差的太多，连日本佳能尼康，都无法在这方面突破，对于本来就起步晚的中国，可能只有不缺钱这一个优势了，想在这一行业有革命性的突破，真的是任重而道远！望不懂技术的媒体，不要在乱带节奏了！。
