光刻技术有哪些,EUV光刻机争夺战打响
公司正准备利用EUV光刻技术大规模生产DRAM芯片。那时，EUV平版印刷术将发挥更大的作用。中国将如何攻克半导体行业的光刻难题？业内专家也指出，高性能光刻技术对中国企业来说成本高昂，但其战略意义不容忽视。相关数据显示，EUV光刻技术将使摩尔定律继续发挥作用，甚至在工艺缩小到1纳米后，摩尔定律仍将继续适用。EUV光刻机争夺战打响，国产光刻技术难题有何解？在当今半导体产业竟争白灼化的今天，荷兰光刻机的ASML公司宣布实现第100套极紫外光刻系统的出货，至2021年年底就采用EUV光刻机光刻了2600万片晶...
更新时间：2022-05-01标签： 光刻技术有哪些光刻EUV打响争夺战技术 全文阅读